应用数学学报

作者：田杰中, 李洪毅, 张诗娴

单位：吉首大学数学与统计学院, 吉首 416000

关键词：再生核函数,均匀性模式,平均偏差,广义字长型,均匀投影设计,下界

均匀设计是一种空间填充设计,因其试验次数的灵活性而被广泛应用于科学试验和工业生产等领域.偏差用来度量设计的整体均匀性,但在实际问题中,往往需要考虑设计的低维投影均匀性.本文推广了Wang et al.(2021)的结论,利用再生核函数定义了任意$q$水平设计的均匀性模式,并给出了最小低阶投影均匀性准则,该准则可用于筛选最小低阶投影均匀设计.建立了任意$q$水平设计的均匀性模式与广义字长型之间的解析关系,并获得了任意$q$水平设计均匀性模式的一个改进的下界,该下界作为一个基准用于衡量投影设计的均匀性.最后通过数值例子验证了所获得的理论结果.

来源：2025年第4期

《应用数学学报》期刊编辑部

查看应用数学学报杂志2025年第4期